Quelltext der Seite Extrem ultraviolette Strahlung

Du bist aus dem folgenden Grund nicht berechtigt, die Seite zu bearbeiten:

Diese Aktion ist auf Benutzer beschränkt, die der Gruppe „Benutzer“ angehören.

Du kannst den Quelltext dieser Seite betrachten und kopieren.

{{Belege fehlen}}
[[Bild:STEREO-A first images.jpg|thumb|right|[[Falschfarbenbild]]er der Sonne im EUV: 17&nbsp;nm (blau), 19&nbsp;nm (grün), 29&nbsp;nm (gelb) 30&nbsp;nm (rot).]]
'''Extrem ultraviolette Strahlung''' ('''EUV''', '''EUV-Strahlung''', engl. {{lang|en|''extreme ultra violet''}}, ''XUV'') bezeichnet den Spektralbereich zwischen 10&nbsp;nm und 121&nbsp;nm.<ref name="ISO21348">ISO 21348 1. Mai 2007. ''Space environment (natural and artificial) — Process for determining solar irradiances.''</ref> Dies entspricht [[Photon]]enenergien zwischen etwa 10,25&nbsp;eV und 124&nbsp;eV. Damit bezeichnet EUV einen Bereich [[elektromagnetische Strahlung|elektromagnetischer Strahlung]] an der Grenze zur [[Röntgenstrahlung]], der sich mit der [[VUV-Strahlung|Vakuumultraviolettstrahlung]] (10–200&nbsp;nm<ref name="ISO21348"/>, auch 100–200&nbsp;nm<ref>DIN 5031 Teil 7 Januar 1984. ''Strahlungsphysik im optischen Bereich und Lichttechnik. Benennung der Wellenlängenbereiche .''</ref>) überschneidet.

== Alternative Definitionen ==
Neben der genannten Definition gibt es noch weitere, weniger gebräuchliche Definitionen:<ref name="ISO21348"/><!-- Einzelbelege fehlen noch-->
# die untere Grenzwellenlänge 30&nbsp;nm beträgt oder
# die obere Grenzwellenlänge
#* des Ionisationspotentials eines [[Sauerstoff]]moleküls (O<sub>2</sub>) bei 102,7&nbsp;nm,
#* der Transmissionsgrenze von [[Magnesiumfluorid]] (MgF<sub>2</sub>) bei 115&nbsp;nm oder
#* der Emissionswellenlänge des [[Lyman-Serie|Lyman-α-Übergangs]] bei 121,6&nbsp;nm angesetzt wird.
<!-- Die Abkürzung wird aber auch häufig für den Bereich zwischen der [[Silizium]]-L-Kante (ca. 12,4&nbsp;nm) bis hin zu ca. 20&nbsp;nm verwendet. --><!--unbelegt-->

Die Abkürzung XUV wird ebenfalls mit der englischen Bezeichnung {{lang|en|''extreme ultra violet''}} in Zusammenhang gebracht. Laut ISO 21348<ref name="ISO21348"/> bezeichnet XUV (0,1–10&nbsp;nm) jedoch den Spektralbereich ultravioletter Strahlung der sich mit weicher Röntgenstrahlung überschneidet.

== Anwendung ==
Die [[EUV-Lithografie]] ist in der [[Halbleitertechnik]] derzeit ein Kandidat für die Nachfolge der [[Fotolithografie (Halbleitertechnik)|Fotolithografie]] und soll die Produktion von zukünftigen mikroelektronischen Schaltungen ermöglichen. International haben sich die beteiligten [[F&E]]-Abteilungen bzw. -Institute auf eine Zentralwellenlänge von 13,5&nbsp;[[Nanometer|nm]] geeinigt. Für die Lithographie kann üblicherweise nur eine Bandbreite von ca. 2 % genutzt werden. Die [[Halbleiter]]industrie plant, ab ca. 2019 Chips mit EUV-Strahlung kommerziell herzustellen.

EUV-Strahlung bietet aufgrund der kurzen Wellenlänge und der starken Wechselwirkung mit Materie das Potential der Analyse und Strukturerzeugung mit Nanometer-Auflösung und typisch mehrerer hundert Nanometer [[Eindringtiefe]].

== Einzelnachweise ==
<references />

[[Kategorie:Elektromagnetisches Spektrum]]

Zurück zur Seite Extrem ultraviolette Strahlung.

Abgerufen von „https://www.cosmos-indirekt.de/Physik-Schule/Extrem_ultraviolette_Strahlung“

Quelltext der Seite Extrem ultraviolette Strahlung

Die News der letzten Tage