Datei:Leiterbahn ausfallort elektromigration01.jpg
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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration01.jpg (512 × 512 Pixel, Dateigröße: 60 KB, MIME-Typ: image/jpeg)
Beschreibung
| Beschreibung |
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop. Die Passivierung wurde vorher durch Reactive Ion Etching (RIE) und Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das best mögliche Resultat zu erlangen. |
| Datum | 21. April 2004 (Original-Hochladedatum) |
| Quelle | selbst mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen |
| Urheber | Patrick-Emil Zörner |
Lizenz
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- 2004-04-21 15:44 Paddy 512×512× (61895 bytes)
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| aktuell | 20:20, 6. Dez. 2010 | | 512 × 512 (60 KB) | wikimediacommons>File Upload Bot (Magnus Manske) | {{BotMoveToCommons|de.wikipedia|year={{subst:CURRENTYEAR}}|month={{subst:CURRENTMONTHNAME}}|day={{subst:CURRENTDAY}}}} {{Information |Description={{de|Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Raste |
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